Suntique Make-Up I´m Derma Relief Sunstick

I'm Derma Relief Sunstick fra Suntique er et solplejeprodukt af høj kvalitet, som beskytter din hud mod solens radikale UV-stråler. Du kan påføre sticken forskellige steder i ansigtet og give din sarte hud en omfattende beskyttelse. Solstiften kan også bruges sammen med din dagmakeup. Som hudbeskyttelse og solpleje danner den en stærk base, før du lægger din make-up foundation i ansigtet. I'm Derma Relief Sunstick fra Suntique er også velegnet til alle hudtyper. Hvis du vil bruge solpleje på tør, normal eller følsom hud, er dette et rigtig godt valg.

Beregnet til daglig brug og ved solbadning

. Uanset om du vil beskytte dit ansigt mod solen i hverdagen, eller når du solbader ved poolen eller på stranden: I'm Derma Relief Sunstick fra Suntique skal påføres ca. 15 minutter før udsættelse for UV-stråling. For at opnå optimale resultater anbefaler vi at gentage påføringen hver tredje time. Den gennemsigtige UV-beskyttelse fugter huden, som er blevet stresset af solen, og sikrer, at den kan regenerere. Produktet er naturligvis dermatologisk testet og produceret uden dyreforsøg.

Påfør generøst 15 minutter før solbadning. Gentag påføringen mindst hver 3. time.

Dimethicone, Paraffin, Triethylhexanoin, Silica, Octocrylene, Ethylhexyl Methoxycinnamate, Diethylamino Hydroxybenzoyl Hexyl Benzoate, Butylene Glycol Dicaprylate/Dicaprate, Phenyl Trimethicone, Vinyl Dimethicone/Methicone Silsesquioxane Crosspolymer, Ethylhexyl Salicylate, Microcrystalline Wax, Methyl Methacrylate Crosspolymer, Euphorbia Cerifera (Candelilla) Wax, Bis-Ethylhexyloxyphenol Methoxyphenyl Triazine, Dipropylene Glycol, Glycerin, Water, 1,2-Hexanediol, Caprylic/Capric Glycerides, Sorbitan Sesquioleate, Polyglyceryl-10 Oleate, Hydrogenated Lecithin, Oil Soluble Licorice (Glycyrrhiza) Extract, Adenosine, Madecassoside, Pentylene Glycol, Aloe Barbadensis Leaf Extract,Butylene Glycol, Centella Asiatica Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate, Parfum(Fragrance).